Ruban de masquage équilibré et facile à mettre en œuvre.
Ruban de découpe résistant aux solvants (En cours de développement)
Le ruban de découpe résistant aux solvants est conçu pour des procédés spéciaux, tels que les wafers TSV.
Ruban de découpe résistant aux solvants (En cours de développement)
Ruban adhésif isolant de classe H avec film fluoroplastique.
Durabilité et résistance aux intempéries supérieures, test froid/chaud (-20 ºC à 100 ºC), et résistance chimique (acides et bases).
L'encre ne se dissout pas, même après avoir été frottée avec des solvants organiques.
