Caractéristiques
Soustractif
- Une technologie de gravure haute résolution qui permet un traitement de ligne à fort rapport largeur/hauteur.
Semi-additif
- En raison de la forme non-trapézoïdale du conducteur, la largeur de surface est maintenue même avec un pas fin.
- Pas besoin d'affiner le conducteur pour accroître la largeur de surface.
Spécifications et informations techniques
Processus soustractif
| Épaisseur du conducteur | Largeur nominale | Facteur de gravure |
| 12 µm [1/3 oz] | Ligne/espace = 25/25 µm (Précision : <5 µm) | Supérieur à 3 |
Processus semi-additif
| Épaisseur du conducteur | Largeur nominale | Facteur de gravure |
| <15 µm (Précision : <4 µm) | Ligne/espace = 20/20 µm (Précision : <3 µm) | ∞ |
Application
- Pour les applications de modules à cristaux liquides.
[Remarques]
